DoNews10月15日消息，佳能公司近日宣布，其已經開始銷售基于“納米印刷”（Nanoprinted lithography）技術的芯片生產設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設備采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造5納米芯片。

據芯智訊報道，在半導體制程技術進入5納米節點之后，EUV極紫外光刻機已經成為了不可或缺的關鍵設備。

但是，因為EUV光刻機造價高昂，每臺價格超過1億美元，而且EUV光刻機僅荷蘭ASML一家產生能夠供應，且產能有限，這使得芯片的生產成本大幅升高。

為此，從2017 年開始，半導體設備廠佳能就與存儲芯片大廠鎧俠，以及光罩等半導體零組件制造商大日本印刷株式會社（DNP）合作，在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內研發基于納米壓?。∟IL) 的量產技術，可以不使用EUV光刻機，就能使制程技術推進到5nm。

佳能表示，這套生產設備的工作原理和行業領導者 ASML 的光刻機不同，其并不利用光學圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上，而是更類似于印刷技術，直接通過壓印形成圖案。

相較于目前已商用化的EUV光刻技術，鎧俠在2021年就曾表示，NIL 技術可大幅減少耗能，并降低設備成本。

原因在于 NIL 技術的微影制程較為單純，耗電量可壓低至EUV 技術的10%，并讓設備投資降低至僅有 EUV 設備的40%。

目前，EUV光刻機只有荷蘭ASML一家能夠生產供應，其不但價格高，而且需要許多檢測設備的配合。

不過，雖然 NIL 技術有許多的優點，但現階段在導入量產上仍有不少問題有待解決，其中包括更容易因空氣中的細微塵埃的影響而形成瑕疵。