天眼查App顯示，中國電子工程設計院股份有限公司近日公開了一項名為“一種超純水的二階凈化設備及凈化工藝”的發明專利，專利號為CN202411759176.5。該技術通過一階系統和二階系統的協同作用，有效提升了超純水的凈化效果，為納米半導體制造工藝提供了重要保障。

據悉，該設備的一階系統包括除鹽單元、第一混合光解吸收器和脫氣單元，能夠將一次純水處理為二次純水。二階系統則包括膜吸收器、第二混合光解吸收器和脫氣超濾單元，進一步將二次純水處理為超純水。其中，第一混合光解吸收器和第二混合光解吸收器分別具有不同的輻射劑量，確保水質的綜合控制。

該技術的發明團隊由程星華、楊光明、薛佳卉等多名專家組成，他們通過創新的工藝設計，解決了超純水凈化中的多項技術難題。該專利的公開日期為2024年12月31日，預計將為半導體制造行業帶來顯著的技術進步。

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